影響脫硝設(shè)備使用效果的條件有哪些-河北耀一節(jié)能設(shè)備制造有限責(zé)任公司
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影響脫硝設(shè)備使用效果的條件有哪些
來(lái)源：河北耀一節(jié)能環(huán)保設(shè)備制造有限公司 發(fā)布時(shí)間：2019/11/7 9:41:33
我們?cè)谑褂妹撓踉O(shè)備，要有_的條件，這樣在使用起來(lái)的話(huà)它的整體效果也會(huì)比較好，除了設(shè)備本身的構(gòu)造以外，在使用時(shí)對(duì)一些材料的分析需是要考慮的，接下來(lái)_來(lái)分析下影響脫硝設(shè)備使用的效果有哪些。
1、反應(yīng)物與煙氣混合程度：還原劑與煙氣的混合程度決定了反應(yīng)過(guò)程和反應(yīng)速度。在分解爐中，還原劑和煙氣在混合時(shí)發(fā)生反應(yīng)?；旌闲Ч苯記Q定了反硝化效率?；旌蠁?wèn)題是造成SNCR脫氮效率低的主要原因之一。
2、還原劑停留時(shí)間：因?yàn)開(kāi)反應(yīng)都需要時(shí)間，因此有必要確保還原劑在適當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)在煙氣中有足夠的停留時(shí)間，以產(chǎn)生還原反應(yīng)。在相同條件下，脫硝設(shè)備的還原劑停留時(shí)間越長(zhǎng)，反硝化效果越好。此時(shí)，需要_完成NH3或尿素與煙氣的混合、水的蒸發(fā)、還原劑的分解和氮氧化物的還原等步驟。一般要求時(shí)間為3s左右，氨在分解爐中的停留時(shí)間取決于分解爐的大小、煙氣通過(guò)分解爐的速度、溶液的霧化條件、霧場(chǎng)與煙氣的混合形式等。
3、溫度范圍：脫硝設(shè)備的氮氧化物的還原反應(yīng)發(fā)生在特定的溫度范圍內(nèi)。由于SNCR不使用催化劑，需要_高的溫度來(lái)_還原反應(yīng)（SNCR的反應(yīng)溫度范圍為600~900C）。反應(yīng)溫度對(duì)SNCR反應(yīng)中氮氧化物的去除率有重要影響。如果溫度過(guò)低，會(huì)導(dǎo)致NH3反應(yīng)不_，增加NH3逸出量，形成二次污染;隨著溫度的升高，分子運(yùn)動(dòng)加快，氨水蒸發(fā)擴(kuò)散過(guò)程加強(qiáng)。
通過(guò)以上分析，我們要在脫硝設(shè)備安裝的時(shí)候要考慮溫度及反應(yīng)物與煙氣的混合程度，這樣多方面結(jié)合考慮，才會(huì)使設(shè)備的性能發(fā)揮出來(lái)，這樣才會(huì)清理雜質(zhì)比較干凈，當(dāng)然在使用前也要對(duì)設(shè)備的當(dāng)時(shí)溫度進(jìn)行檢查，如果符合操作要求在進(jìn)行下一步，避免使用過(guò)程中出現(xiàn)問(wèn)題。
2、還原劑停留時(shí)間：因?yàn)開(kāi)反應(yīng)都需要時(shí)間，因此有必要確保還原劑在適當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)在煙氣中有足夠的停留時(shí)間，以產(chǎn)生還原反應(yīng)。在相同條件下，脫硝設(shè)備的還原劑停留時(shí)間越長(zhǎng)，反硝化效果越好。此時(shí)，需要_完成NH3或尿素與煙氣的混合、水的蒸發(fā)、還原劑的分解和氮氧化物的還原等步驟。一般要求時(shí)間為3s左右，氨在分解爐中的停留時(shí)間取決于分解爐的大小、煙氣通過(guò)分解爐的速度、溶液的霧化條件、霧場(chǎng)與煙氣的混合形式等。
3、溫度范圍：脫硝設(shè)備的氮氧化物的還原反應(yīng)發(fā)生在特定的溫度范圍內(nèi)。由于SNCR不使用催化劑，需要_高的溫度來(lái)_還原反應(yīng)（SNCR的反應(yīng)溫度范圍為600~900C）。反應(yīng)溫度對(duì)SNCR反應(yīng)中氮氧化物的去除率有重要影響。如果溫度過(guò)低，會(huì)導(dǎo)致NH3反應(yīng)不_，增加NH3逸出量，形成二次污染;隨著溫度的升高，分子運(yùn)動(dòng)加快，氨水蒸發(fā)擴(kuò)散過(guò)程加強(qiáng)。
通過(guò)以上分析，我們要在脫硝設(shè)備安裝的時(shí)候要考慮溫度及反應(yīng)物與煙氣的混合程度，這樣多方面結(jié)合考慮，才會(huì)使設(shè)備的性能發(fā)揮出來(lái)，這樣才會(huì)清理雜質(zhì)比較干凈，當(dāng)然在使用前也要對(duì)設(shè)備的當(dāng)時(shí)溫度進(jìn)行檢查，如果符合操作要求在進(jìn)行下一步，避免使用過(guò)程中出現(xiàn)問(wèn)題。
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